Metalli traccia contaminanti

Quanto sono puliti i tuoi o-ring e le tue guarnizioni?

Qual è il contenuto in metalli traccia dei materiali in elastomero nelle posizioni critiche all'interno del tuo strumento di processo?

La contaminazione di particelle e ioni metallici rappresenta una minaccia costante per la produzione di dispositivi a semiconduttori. Più piccolo è il dispositivo, maggiore è il potenziale danno e aumento dei costi man mano che il livello di contaminazione ammissibile si riduce.

Quando si scelgono guarnizioni in elastomero per applicazioni critiche, i produttori dei dispositivi devono garantire che selezioneranno materiali appropriati con livelli di metalli in traccia ultrabassi, al fine di evitare contaminazioni e il deterioramento del dispositivo.

Analisi del contenuto dei metalli traccia

Sono stati analizzati 22 diversi materiali in elastomero, provenienti da vari produttori/fornitori, commercializzati specificamente per applicazioni per semiconduttori, per individuarne il contenuto in metalli traccia in una struttura di prova specializzata esterna. La tecnica di analisi ha utilizzato la spettrometria di massa al plasma accoppiato induttivamente (ICP-MS) per la determinazione delle impurità metalliche di livello basso e ultrabasso, fino a livelli di una parte per miliardo (ppb).  Impurità metalliche come sodio (Na), calcio (Ca), potassio (K), magnesio (Mg), titanio (Ti), e molte altre sono state misurate e confrontate.

Quindi, quali materiali in elastomero erano i più puliti?

Vuoi saperne di più?   Scarica i risultati qui di seguito.

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