Processi termici
Le applicazioni a base termica necessitano di materiali di tenuta, che abbiano buone proprietà meccaniche, come un ridotto cedimento permanente o rilassamento dopo una sollecitazione da compressione, in aggiunta a requisiti di resistenza chimica molto specifici. Processi come ALD, LPCVD, SACVD, ricottura e ossidazione, richiedono materiali di tenuta capaci di resistere alle alte temperature per un tempo prolungato. Questi processi spesso includono l’uso di ossigeno, ozono o una combinazione di ozono e radiazioni UV ad alta energia, come quelle applicate all’ingegneria dei transistor, all’FCVD e alla lavorazione con tecnologia low-k.
La scelta appropriata di prodotti raccomandati PPE condurrà a:
- Raccomandazioni con ottimizzazione dei costi in base all’applicazione
- Bassa resistenza al cedimento permanente
- Vita utile più lunga in regimi di indurimento ai raggi UV aggressivi
- Ridotti tassi di erosione
- Bassi livelli di metalli traccia, ove fondamentali
- Ridotti tassi di rilascio di particelle, ove fondamentali
- Impatto ridotto al minimo sulla resa del dispositivo e sulla resa elettrica
- Costo dei materiali di consumo ridotto (CoC)
La tabella di seguito indica le tipologie dei materiali in elastomero compatibili e raccomandati da PPE. Le tipologie primarie sono studiate per l’applicazione in posizioni critiche in impianti e attrezzature. Per ulteriori indicazioni sulla scelta della tenuta appropriata trova il contatto di vendita a te più vicino.
| Processo/Applicazione | Gamma di temperature | Mezzi di lavorazione | Materiali primari | Materiali compatibili |
| CVD (deposizione chimica da vapore) metallo ALD LPCVD | 25 - 300°C (77 - 572°F) | Precursori organici, WF6, TiCl4, SiH4, SiHCl3, SiH2Cl2, SiCl4, Ar, N2, H2, NH3, HF, HCl, F2, Cl2, CIF3, NF3,vapore H2O, O2, O3 | G7HA | G75H, G70H, G75B |
| SACVD | 25 - 300°C (77 - 572°F) | TEP, TEBO, TEOS, O3, O2, N2, NF3 | G7HA, G65HP | G70H, G75B, G75H |
| Diffusione ossidazione | 100 - 300°C (212 - 572°F) | N2, O2, H2O, POCl3, BBr3, PH3, B2H6, HCl, Cl2 | G7HA, G75H | G65HP, G70H, G75B |
| RTP e Ossidazione termica | 100 - 300°C (212 - 572°F) | radiazione IR, O2, vapore | G65HP, G75B | G7HA, G75H, G70H |
| indurimento a raggi UV | 100 - 300°C (212 - 572°F) | N2, Ar, O2, O3 | G75H, G70H | G76W |